CVD
生產(chǎn)均勻的涂層需要快速、精確地將氣體輸送到真空鍍膜系統(tǒng)中。這在從人造鉆石生產(chǎn)到光伏涂層的薄膜應(yīng)用中至關(guān)重要。
優(yōu)化薄膜沉積設(shè)置，以實(shí)現(xiàn)最大吞吐量和最優(yōu)薄膜質(zhì)量
Alicat 擁有一系列專為升級(jí)現(xiàn)有真空裝置而設(shè)計(jì)的定制解決方案。
- 無需預(yù)熱時(shí)間。 開機(jī)后，沉積循環(huán)可以立即開始。
- 毫秒級(jí)響應(yīng)時(shí)間。流量和壓力控制器可立即響應(yīng)過程工藝條件變化，最大限度地提高均勻性并最大限度地減少浪費(fèi)。
- 多種氣體兼容性。?單個(gè)設(shè)備可以用于沉積過程中所需的任何氣體，精度高。
應(yīng)用
滿量程流量，不受氣體或工藝條件變化的影響
Alicat 設(shè)備預(yù)裝了?98+ 種氣體校準(zhǔn)。在標(biāo)準(zhǔn)工況下，流量和壓力設(shè)備將保持其規(guī)定的流量范圍和適用于任何氣體的精度規(guī)格。
316L 不銹鋼和 FFKM 彈性體確保與腐蝕性氣體和惡劣元素兼容。
您可以在現(xiàn)場(chǎng)切換氣體，無需停機(jī)或重新校準(zhǔn)。
設(shè)計(jì)符合半導(dǎo)體 SEMI 標(biāo)準(zhǔn)
MCE 系列和 MCV 系列質(zhì)量流量控制器旨在取代傳統(tǒng)設(shè)備。為確保易于集成，儀器配備了各種數(shù)字和模擬通信協(xié)議，包括 EtherCAT。
產(chǎn)品
CODA 科里奧利質(zhì)量流量控制器精確控制?去離子水?或高壓氣體。
集成了累加器的氫氣質(zhì)量流量計(jì)使監(jiān)測(cè)變得容易，最高可達(dá)?12,000 SLPM。
氫氣質(zhì)量流量控制器在高達(dá)?12,000 SLPM?的滿量程流量下模擬燃料電池行為?，響應(yīng)迅速，精度高。
雙閥壓力控制器可毫秒內(nèi)達(dá)到設(shè)定值，并保持控制，而不會(huì)持續(xù)泄露。
主要行業(yè)用途
生產(chǎn)高質(zhì)量的實(shí)驗(yàn)室培育鉆石需要精確控制氫氣和甲烷的流動(dòng)以及腔室真空。
正在設(shè)計(jì)新的濺射設(shè)備？使用帶有 集成電容隔膜真空傳感器的單個(gè)上游壓力控制器替換下游節(jié)流閥、真空計(jì)和 PIC 控制模塊。
PC-EXTSEN 壓力控制器將線性模擬信號(hào)直接從真空計(jì)發(fā)送到 Alicat 壓力控制器。這允許輕松升級(jí)系統(tǒng)，而無需完全重新設(shè)計(jì)。